本設備主要應用于活化,提升附著力和清洗等工藝。
●適用于最大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復制材料粘附性