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        產品&服務

        GL300 MLA 下一條 上一條 < 返回

        200/300mm WLO工藝量產型紫外納米壓印光刻設備 晶圓級光學器件加工(WLO)
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        GL300 MLA是天仁微納最新型專門為晶圓級光學加工(WLO-Wafer Level Optics)開發的全自動紫外納米壓印光刻設備,可在200/300 mm基底面積上平行復制生產聚合物光學器件。

        該設備支持cassette to cassette自動上下片、自動復制柔性復合工作模具,工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環境中進行,以保證壓印結果質量。內置的高精度自動點膠系統、APC(主動模具基底平行控制)技術、以及自動脫模功能都保證了大面積晶圓級光學生產的精度、均勻性(TTV)與良率。同時,自動模具基底對位系統還可實現晶圓之間對位堆疊工藝(WLS-Wafer Level Stacking)。

        GL300 MLA納米壓印設備適用于DOE、勻光片(Diffuser)、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產品的研發和量產。

        主要功能

        ●?全自動200/300mm晶圓級光學加工(WLO)生產線
        ●?APC主動模具基底平行控制技術,確保大面積晶圓壓印TTV均勻性
        ●?Cassette to cassette自動上下片,光學巡邊預對位
        ●?設備內自動復制柔性復合工作模具,同時支持自動更換工作模具,適合連續生產
        ●?內置高精度自動點膠功能
        ●?自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模,工藝過程在密閉潔凈環境中自動進行,以保證壓印質量
        ●?標配高功率紫外LED面光源(365nm,光強>1000mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制,完美支持各種商用納米壓印材料
        ●?隨機提供全套納米壓印工藝與材料,包括標準示范WLO等工藝流程,幫助客戶零門檻達到國際領先的納米壓印水平

        設備照片

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        相關參數

        兼容基底尺寸 200mm、300mm
        特殊尺寸可定制
        支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
        上下片方式 Cassette to cassette全自動上下片
        晶圓預對位 光學巡邊預對位
        納米壓印技術 APC主動平行控制技術,適合大面積WLO、WLS等工藝
        壓印精度 可小于10納米*
        結構深寬比 優于10比1*
        TTV控制 微米級精度(200 /300 mm晶圓)
        紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光強>1000mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
        設備內部環境控制 標配,外部環境Class 100,內部環境可達Class 10*
        自動壓印 支持
        自動脫模 支持
        自動工作模具復制 支持
        自動工作模具更換 支持
        模具基底對位功能 支持


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        納米壓印解決方案小冊子

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