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GL150/300 CLIV 是天仁微納最新型全自動高精度紫外納米壓印設備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術，可實現最大150/300mm基底面積上高精度（優于10nm ）、高深寬比（優于10比1 ）納米結構復制量產。
該設備支持cassette to cassette自動上下片、自動復制柔性復合工作模具，工作模具自動更換。整個工藝過程在密閉潔凈環境中進行，以保證壓印結果質量。CLIV技術的應用保證了大面積納米壓印過程中結構精度與高深寬比結構的完整填充，同時保證了大面積結構壓印均勻性。
GL150/300 CLIV納米壓印設備適用于DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產。
●?全自動150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產線
●CLIV技術，確保壓印結構精度與結構填充完整性
●Cassette to cassette自動上下片，光學巡邊預對位
●設備內自動復制柔性復合工作模具，同時支持自動更換工作模具，適合連續生產
●自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在密閉潔凈環境中自動進行，以保證壓印質量
●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，完美支持各種商用納米壓印材料
●產能可大于40片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產
●隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際領先的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自動上下片 |
| 晶圓預對位 | 光學巡邊預對位 |
| 納米壓印技術 | CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓印 |
| 壓印精度 | 優于10納米* |
| 結構深寬比 | 優于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設備內部環境控制 | 標配，外部環境Class 100，內部環境可達Class 10* |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
| 自動工作模具復制 | 支持 |
| 自動工作模具更換 | 支持 |
| 模具基底對位功能 | 自動對位（選配） |
| 產能 | 可大于40片每小時* |
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