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GL8 CLIV Gen2是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術，可實現200mm基底面積上高精度（優于10nm ）、高深寬比（優于10比1 ）納米結構復制量產。
GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm? & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，可實現200/300mm基底面積上高精度（優于10nm ）、高深寬比（優于10比1 ）納米結構復制量產。
該設備支持自動復制柔性復合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長等特點，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。保證了大面積納米壓印過程中結構精度與高深寬比結構的完整填充，同時保證了大面積結構壓印均勻性。
GL8/12 CLIV納米壓印設備適用于DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的量產。
● 經過量產驗證的200mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印
● CLIV技術，確保壓印結構精度與結構填充完整性
● 設備內自動復制柔性復合工作模具，降低大面積納米壓印模具使用成本
● 自動對位、自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程無需人工干預
● 標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2?），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，完美支持各種商用納米壓印材料
● 標配設備內部潔凈環境與除靜電裝置
● 隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到高質量的納米壓印水平
| 兼容基底尺寸 | 2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等 |
| 上下片方式 | 手動上下片 |
| 晶圓預對位 | 機械夾持預對位，可選裝光學巡邊預對位 |
| 納米壓印技術 | CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓印 |
| 壓印精度 | 優于10納米* |
| 結構深寬比 | 優于10比1* |
| 殘余層控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光強>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配） |
| 設備內部環境控制 | 標配，外部環境class 100，內部環境優于Class 10* |
| 自動壓印 | 支持 |
| 自動脫模 | 支持 |
| 自動工作模具復制 | 支持 |
| 模具基底對位功能 | 自動對位（選配） |
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