GL300 Cluster200/300 mm 全自動納米壓印光刻生產線
GL300 Cluster是模塊化的全自動納米壓印生產線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微納專利CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術，可實現200/300mm基底面積上全自動高精度（優于10nm ）、高深寬比（優于10比1 ）納米結構復制量產。設備采用模塊化設計，用戶可以根據工藝需求和生產節奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及壓印的模塊數量，達到最優的生產效率。設備支持自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和壓印、自動脫模，整個工藝過程在密閉潔凈環境中進行，以保證壓印結果質量。
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