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GL4 R&D是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，功能強大的多功能研發型納米壓印光刻設備。通過簡單的夾具更換，可以實現旋涂壓印膠高精度納米結構壓印和點膠大矢高結構自動找平壓印模式之間的快速切換。
GL SR300是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優于20納米的三維結構，還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進式壓印拼接成大面積壓印母模具。
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